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两个土上下结构念什么加偏旁,两个土上下结构念什么语音 国家知识产权局:将修改完善集成电路布图设计保护条例,适应大规模集成电路发展需要

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  金(jīn)融界4月24日消(xiāo)息,国(guó)家(jiā)知识产权局局(jú)长(zhǎng)申(shēn)长雨在新闻发(fā)布会上表示,将统筹推进各类知识产权(quán)法律法(fǎ)规和制度规则的(de)制修订工(gōng)作。其(qí)中(zhōng),修改完善集成电路布(bù)图设计(jì)保护条例,适应大规模(mó)集成电路发展需(xū)要,助力(lì)芯片产(chǎn)业做大(dà)做强(qiáng),服(fú)务数字经济更好发(fā)展。

  加强大数据、人工(gōng)智能、基因(yīn)技术等新领域(yù)新业态知识产(chǎn)权规则(zé)研(yán)究(jiū),助力相(xiāng)关领域创新(xīn)发(fā)展。同时(shí),积极参与知识产权国际规则制定,更(gèng)好(hǎo)对(duì)接高标(biāo)准国际经(jīng)贸规则(zé),助力高(gāo)水平(píng)对外开放。

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